在当今数字化时代，电子设备已经成为人们生活中不可或缺的一部分。从智能手机到电脑，从智能家电到汽车电子，电子设备的性能和质量直接影响着人们的生活体验。而在这背后，超纯水设备发挥着至关重要的作用。

超纯水设备的原理

超纯水设备通过多种先进技术，将水中的杂质降低到几乎可以忽略不计的程度。预处理阶段，多介质过滤器、活性炭过滤器等设备去除水中的悬浮物、胶体、有机物等较大颗粒杂质。接着，反渗透装置利用半透膜的特性，在压力作用下，让水分子通过，截留水中的无机盐、重金属离子等杂质。而后，离子交换树脂进一步去除水中残留的离子。最后，通过电去离子（EDI）技术，实现连续除盐，得到超纯水，其电阻率可达18.2MΩ·cm，几乎不含有任何导电物质。

在芯片制造中的应用

硅片清洗

芯片制造始于硅片，硅片清洗是确保芯片质量的首要环节。超纯水作为清洗剂，能够有效去除硅片表面在加工过程中沾染的光刻胶、金属杂质、颗粒污染物等。由于芯片的尺寸越来越小，对硅片表面的清洁度要求极高。哪怕极其微小的杂质颗粒，都可能在芯片制造过程中导致电路短路、开路等缺陷，影响芯片的性能和良品率。超纯水凭借其高纯度的特性，避免了清洗过程中引入新的杂质，为后续的光刻、蚀刻等工艺提供了清洁的硅片表面。

光刻工艺

光刻是芯片制造的核心工艺，超纯水在光刻过程中发挥着不可或缺的作用。光刻胶在曝光后需要进行显影处理，超纯水用于配制显影液，确保显影过程的均匀性和准确性。如果显影液中含有杂质，会导致光刻胶图案变形、分辨率降低，从而影响芯片的图形转移精度。此外，在光刻设备的维护过程中，超纯水用于清洗光学部件，防止灰尘和杂质污染光学系统，保证光刻设备的高分辨率和稳定性。

蚀刻工艺

蚀刻是将光刻后的硅片表面不需要的材料去除，形成芯片电路结构的重要工艺。超纯水不仅用于配制蚀刻液，还在蚀刻过程中起到冲洗和冷却的作用。高纯度的蚀刻液能够保证蚀刻的精度和均匀性，使芯片的微小结构得以精确形成。超纯水在冲洗过程中，能够迅速带走蚀刻产生的残留物，防止其重新附着在硅片表面，影响蚀刻效果。同时，超纯水的冷却作用有助于控制蚀刻过程中的温度，提高蚀刻工艺的稳定性。

在半导体封装中的应用

芯片清洗

在半导体封装前，芯片需要进行清洗，以去除在芯片制造过程中残留的杂质和污染物。超纯水能够彻底清洗芯片表面，确保芯片在封装过程中的可靠性。特别是对于倒装芯片封装技术，芯片表面的清洁度直接影响芯片与封装基板之间的连接质量。超纯水清洗能够有效减少焊接缺陷，提高封装后的芯片性能。

封装材料清洗

封装材料如基板、引线框架等在加工过程中也会沾染杂质。超纯水用于清洗这些封装材料，去除表面的油污、氧化物等杂质，提高封装材料的表面质量。清洁的封装材料有助于提高封装的密封性和电气性能，延长半导体器件的使用寿命。

在电子设备制造中的其他应用

液晶面板制造

液晶面板制造过程中，超纯水用于清洗玻璃基板、配液和光刻工艺等环节。玻璃基板表面的清洁度对液晶分子的排列和显示效果有着重要影响。超纯水能够确保玻璃基板表面无杂质残留，为液晶面板的高质量制造提供保障。在配液过程中，超纯水用于配制光刻胶、显影液、蚀刻液等，保证这些溶液的纯度和稳定性，从而提高液晶面板的制造精度和良品率。

印刷电路板制造

印刷电路板（PCB）制造过程中，超纯水用于清洗、电镀和蚀刻等工艺。在清洗环节，超纯水能够去除PCB表面的油污、灰尘和其他杂质，为后续的电镀和蚀刻工艺提供良好的表面条件。在电镀过程中，超纯水用于配制电镀液，保证电镀层的均匀性和质量。在蚀刻过程中，超纯水作为蚀刻液的溶剂，确保蚀刻过程的精确控制，提高PCB的制造精度。

超纯水设备在电子行业的应用贯穿了从芯片制造到电子设备组装的整个产业链。随着电子技术的不断发展，对超纯水的质量和供应量提出了更高的要求。超纯水设备将继续不断创新和完善，为电子行业的高质量发展提供强有力的支持。

          在这里为大家介绍一款我们深圳市兰琳德创科技有限公司推出的一款SLD-4T/15M制纯水机。
                             
                                              产品图片
 

本系统为产水1T/H超纯水制备系统，是以客户来水作为原水，先经过前置预处理，再经反渗透处理。经过一系列处理后,可去除水中的颗粒、胶体、有机杂质、重金属离子等物质及95%的溶解盐。该系统包括预处理部分（增压泵、石英砂过滤器、活性碳过滤器、软化、5μm 保安过滤器）、高压泵、一级反渗透及自动供水装置。本系统作为一个整体，每一个处理工艺都是互相联系的，前一个处理工艺的效果可能影响下一级处理工艺，都可能对整套系统终端产水造成影响。整套系统自动控制运行。

  设备主要参数

1.原水水质: 市政自来水（具体水样不详）；

2.产水用途: 生产工艺用水；

3.系统产水量：1T/H

4.要求原水流量：>2T/h，原水压力：0.3Mpa

5.水回收率：50%-75%（若直接采用纯水无反渗透系统回收率>90%）

6.产水电阻率：>10MΩ

7.外形尺寸：3M*3M*2.5M（长X宽X高）

8.净重量：1000kg

9.运行重量：约3000KG

10.电源：380V，50Hz  功率约4kw

11. 系统出水: 进水电导率≤250us/cm，产水电阻率≥15MΩ.cm

12. 产水水量: 1m 3/h；

13. 设计水温：最高 35℃，最低 15℃；

14. 水 压：0.2-0.3Mpa；

15. 运行方式：自动运行；

工艺流程：

 

原水箱→原水泵→石英砂过滤器→活性碳过滤器→软化器→保安过滤器→一级高压泵 →一级反渗透设备→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透设备→反渗透水箱→紫外线杀菌器→EDI供水泵→精密过滤器→EDI 装置→EDI产水箱→抛光混床→用水点

反渗透膜清洗流程：药洗出口→药洗水箱→药洗水泵→药洗滤器→药洗进口。

深圳市兰琳德创是一家专注于清洗设备研发生产和销售的企业，旗下拥有PCBA清洗机等多款设备，包括了PCBA水清洗机、在线PCBA水清洗机、离线PCBA清洗机、助焊剂清洗机、钢网清洗机、治具清洗机、电路板清洗机等设备。深圳市兰琳德创一直秉持客户至上的理念，提供好的服务和产品。欢迎广大客户来电咨询！